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▣ 라운드/챔퍼 Feature (Round/Chamfer Features)
Creo Parametric에서 모델의 에지(Edge)나 모서리를 부드럽게 처리하거나 경사면을 추가하는 데 사용되는 피처로, 설계의 미적, 기능적, 제조적 요구사항을 충족합니다. 이들은 주로 모델의 날카로운 모서리를 제거하거나, 조립 및 제조 공정을 용이하게 하기 위해 사용됩니다.
1. Round (라운드)
- 정의: 모델의 에지나 곡선에 필렛(Fillet)을 적용하여 부드러운 반원형 전환을 생성.
- 특징:
- 반지름(Radius): 라운드의 크기를 정의하며, 고정 또는 가변 반지름 설정 가능.
- 유형:
- 일반 라운드: 단일 반지름을 가진 단순 필렛.
- 변형 라운드(Variable Radius): 에지 길이에 따라 반지름이 변화.
- 풀 라운드(Full Round): 두 면 사이를 완전히 채우는 라운드.
- 세트 기반 라운드: 여러 에지를 동시에 라운드 처리.
- 옵션:
- 전환(Transition): 코너 처리 방식(예: Smooth, Sharp).
- 제외 면(Exclude Surface): 특정 면을 라운드에서 제외.
- 활용:
- 날카로운 에지 제거로 안전성 및 내구성 향상.
- 미적 개선(예: 곡면 제품 디자인).
- 제조 시 응력 집중 완화.
- 예시: 직사각형 블록의 모서리에 반지름 5mm의 라운드 적용.
2. Chamfer (챔퍼)
- 정의: 에지에 경사면을 추가하여 모서리를 비스듬히 깎는 피처.
- 특징:
- 유형:
- 등거리 챔퍼(D x D): 두 면에 동일한 거리만큼 경사면 생성.
- 거리-각도 챔퍼(D x A): 한 면의 거리와 경사 각도 지정.
- 동등 챔퍼(D1 x D2): 두 면에 서로 다른 거리 지정.
- 옵션:
- 방향(Direction): 경사면의 방향 제어.
- 세트(Set): 여러 에지를 한 번에 챔퍼 처리.
- 활용:
- 조립 시 부품 삽입 용이성 증대(예: 볼트 구멍).
- 제조 공정(예: 모서리 깎기) 간소화.
- 응력 집중 완화 및 미적 개선.
- 예시: 샤프트의 끝단에 45° 각도로 2mm 챔퍼 적용.
- 유형:
공통 특징
- 파라메트릭: 치수 기반으로 수정 가능하며, 부모-자식 관계로 모델 트리에 기록.
- 에지 선택: 라운드와 챔퍼는 특정 에지 또는 에지 체인(Chain)을 대상으로 적용.
- 제조 고려: 몰딩, 주조, CNC 가공 등 제조 공정에서 필수적.
- 실패 관리: 잘못된 에지 선택이나 참조 문제로 피처 실패 시, Reroute 또는 Redefine으로 수정.
주의사항
- 순서 중요: 라운드와 챔퍼는 다른 피처(예: Extrude, Cut) 이후에 적용하는 것이 일반적. 부모 피처 변경 시 실패 가능성 있음.
- 복잡한 형상: 복잡한 곡면에서는 라운드/챔퍼 적용 시 에지 간섭 주의.
- 성능: 과도한 라운드/챔퍼는 모델 렌더링 속도 저하 가능.
- 버전별 차이: Creo 버전(예: Creo 11.0)에 따라 UI나 고급 옵션(예: 고급 전환 처리) 상이.

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